深化國際合作技術整合 赴美交流
分子尼奥(Quantum NIL) 為深化國際合作與技術整合，持續積極尋求奈米壓印(Nano Imprint Lithography , NIL)應用領域的合作夥伴，日前執行長林仲相赴美交流，拜會請益哈佛大學George Whitesides與麻省理工學院Robert Langer兩位教授。
林仲相指出，Whitesides是軟微影技術(Soft Lithography)開創人，奈米材料、微流道力學與醣化學合成領域權威；也是全球奈米技術(Nanotechnology)先驅，曾為中研院院長翁啟惠的指導教授。
Langer則是全球藥物傳遞與生物組織再生工程權威、新冠疫苗Moderna 公司的共同創辦人。林仲相表示，今後將持續與兩位國際級大師交流，再結合分子尼奧在奈米壓印製程的專業能力，共同開發新一代高精度生物晶片製程解方。
量子光電製程再精進 卡位產業鏈
分子尼奧位竹南科學園區，深耕量子技術多年，積極接軌國際，推動台灣新創在未來量子產業鏈的發展。林仲相帶領團隊專注光子晶體材料研究超過20年，憑藉國內外豐饒的科研經驗，不但奠定穩固技術基礎，並帶領企業持續朝量子應用領域深耕發展。
在全球量子科技與客製化高階製程推動下，分子尼奧在量子光電產業的製程實力不斷精進，尤其在數據中心、擴增實境(AR)眼鏡、超穎光學鏡頭(Metalens)與生物晶片(Bio-Chip)等領域開拓出更多應用，協助台灣製造走向全球量子科技舞台。
奈米壓印製程技術 量子應用明朗
林相仲指出，量子技術與應用議題在全球先進科技領域快速崛起。隨著AI晶片、AR眼鏡、Metalens等高科技產品導入市場，奈米壓印製程技術成為實踐量子應用發展的重要途徑，勾勒出的應用領域也愈臻清晰。
分子尼奧專注在晶圓級化合物半導體材料的高精度加工，提供涵蓋沉積、蝕刻與對位等完整製程解決方案，並以奈米壓印技術為核心，積極推動量子應用發展。
全光傳輸 新數據中心架構發展快
林仲相熟悉全球科技產業生態與競合關係，深刻理解國際科技主導力量對產業發展的影響。他指出，台灣目前掌握約95%高階晶片產能，國際社會意識到產業製造有過度集中風險，必須積極推動製造與解決方案多元布局。其中，以全光傳輸為核心的新世代數據中心架構快速發展，將帶動新一波技術發展需求。
新一代數據中心將架構超高頻寬全光傳輸，速度更快、體積更小，也能降低能耗與發熱。當中雷射是目前主流光源技術；Microled也具潛力。分子尼奥的目標客戶銜接上述應用，將成為產業鏈的核心。
量子技術商業化 開啟更多元應用
林仲相表示，新一代晶片製程技術已邁入埃米(Å）世代，正透過3D堆疊等先進半導體製程，試圖挑戰並突破莫爾定律極限。然而製程面臨高耗電、散熱與運算速度等挑戰。量子技術商業化有望優化現有設計技術，為未來電子、光學與運算架構開啟更多應用。
延伸閱讀
- AIT搭橋 分子尼奥赴美交流量子技術
- 躍上創新升級浪頭 前瞻智慧科技指路
- 分子尼奧擅奈米壓印 節能低碳低成本
- 眺望2026 無限量指路量子發展4策略
- 超穎光學前景好 分子尼奧卡位供應鏈
- NIL半導體晶圓代工 分子尼奧創趨勢
