奈米壓印 電子光學裝置製造關鍵
未來的AI化晶片、AR眼鏡，甚至量子光學裝置，都可能用「壓印」的方式來製造，隨著AI和量子科技快速進展，傳統規模化製造方式已經跟不上AI多變的設計需求。
其中，奈米壓印（Nanoimprint Lithography, NIL）的新製程技術能以低成本低碳製造出極細微、極精密的結構，不僅可以提升效能，同時更靈活節能，可望成為打造新世代電子與光學裝置製造的關鍵。
專業代工 客製複雜精細奈米結構
分子尼奧（Quantum NIL）深耕奈米壓印技術領域，專為AI晶片、擴增實境（AR）眼鏡和超穎光學鏡頭(metalens)等高科技產品，提供高階奈米圖案製程專業代工服務，團隊具備豐富的材料與化合物半導體背景，可依需求製造出複雜又精細的奈米結構。在全球對節電、高效能光電產品需求增加，分子尼奧憑藉遠見與技術實力，一步步協助台灣產業在奈米製造領域的國際地位和競爭力。
創辦人之一的林仲相博士，畢業於台大物理系，並取得美國紐約大學物理學博士學位，專長為光子晶體理論與製造，曾任英國 IQE 奈米壓印事業群與台灣洲磊科技總經理，將累積超過20年光電半導體領域經驗，轉化為分子尼奧的創業基礎。他指出，隨著AI驅動的設計方法進展迅速，引領量子科技邁向更高複雜度與近似隨機的設計架構，能最佳化系統整合與效能。
製程創新 解決傳統曝光微影痛點
這股AI設計的趨勢對傳統曝光微影技術也將帶來不同挑戰，尤其面對高度多樣化的結構設計與極小尺寸圖案時，現有製程難以滿足需求。傳統曝光不僅需要克服解析複雜圖案能力的門檻，也難以兼顧彈性、效率與成本控管，導致製程不易擴展至量少多樣的生產需求。
分子尼奧的複合式奈米壓印技術解決方案，具備高度彈性與跨材料相容性，可與生物聚合物、熱/光抗蝕劑、金屬、塑膠、玻璃、化合物半導體、金屬氧化物、複合材料及生物功能性材料等材料結合，能應用於存在幾何翹曲或厚度差異較大的晶圓以及非平坦和曲面基板，製程適用性大大超過傳統曝光微影技術。
創新複合式奈米壓印 營造競爭力
2006年奈米壓印技術（NIL）就能做到2奈米超細微結構，顯示在製造微小零件的強大能力。分子尼奧為技術領先者，不斷研發新技術，還把奈米壓印和傳統製造方法結合起來，推出複合式奈米壓印解決方案，同時解決兩種技術間的問題，也將透過持續創新，擴大奈米壓印技術的應用，打造奈米製造的重要競爭力。
