AI，無疑是去年以來最熱門的關鍵字，百工百業全力導入；另外就是半導體，整個產業如同明星，熱度維持不墜，尤其台積電挾先進製程優勢受到國際大廠追捧，加碼千億美元的全球投資布局，不但台積電本身一舉一動受到關注，就連供應鏈也因受惠程度深，股價或前景都深具想像空間。
獨特複合式解方 補傳統技術落差
分子尼奥科技(Quantum NIL Corporation)專攻奈米壓印技術(NIL)，是下世代明星產業，2022年由執行長林仲相創立，主力產品與服務為提供晶圓級化合物半導體材料與超穎光學(Metalens)的高階圖案製程代工，無論從技術或應用層面來看，都與AI與半導體技術直接相關，並非攀附熱門。
林仲相為紐約大學物理學博士，在光電半導體領域經驗超過20年，曾任英國IQE公司奈米壓印事業群與洲磊科技總經理。早在2007年，帶領的團隊就是NIL商業化的先驅，持續多年推動技術與傳統曝光技術整合，以獨特複合式奈米壓印技術(hybrid NIL)解決方案，填補 NIL 與傳統曝光技術間的應用落差。
AI算力提升 異質整合設計機會大
林仲相表示，NIL 源自1990年代，為物理性機械壓印複製技術，能將奈米結構圖案直接壓印在基板上，解析度10nm以下，具低生產成本、低耗能，高製程靈活性，對材料類型與規格較不敏感等優點。
當前AI技術一日千里，以AI技術為基礎的架構設計高度複雜且接近隨機，現有曝光技術逐漸力不從心，必須重新調整傳統矽基半導體的製程設計套件(process design kit, PDK)才能勝任。林仲相認為，隨AI算力不斷提升，量少樣多的異質整合(heterogenous integration)設計，將為化合物半導體與量子科技發展，提供絕佳機會。
生產彈性優勢 量子產業製程解方
量子廣域態具有疊加(superposition)與糾纏(entanglement)等狀態。量子元件的材料可以是矽半導體、超導體，也可以是Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體。NIL的生產彈性優勢，是量子產業的重要技術，具不受傳統曝光繞射限制，為實現多樣AI設計元件、系統整合與性能優化的重要製造解方。
台積電與晶片大廠持續突破矽半導體製造極限，極紫外光 (Extreme Ultraviolet, EUV) 曝光技術已實現12吋矽晶圓、2nm 以下製程，推動半導體微縮技術登上新台階，但也面臨EUV製造成本高、能耗大，對矽基板要求嚴苛等挑戰現況。
看好 新雷射光子晶體面射型雷射
林仲相表示，當半導體設備大規模應用時，會面臨大面積均勻性、高精度對準、材料相容性與設備整合等挑戰；在異質材料整合的靈活性上也將大大受限，阻礙多樣化半導體應用元件的擴展性。不過，隨著NIL技術進步及與矽半導體整合加速進行，凸顯在未來半導體製造發展的重要性，將塑造量子相關元件應用的新未來。
林仲相看好新一代雷射光子晶體面射型雷射(photonic crystal surface emitting laser, PCSEL)前景，透過光子晶體結構取得高功率、高系統效率且單模運行的特性。相較傳統 VCSEL和邊射型雷射，具備更優異的光束品質、大面積發光及高度可擴展性，為 LiDAR、光通信與 AR/VR 顯示的重要技術。NIL可將奈米級圖案實現在PCSEL上，以亞波長精度精確製作光子晶體圖案，生產 PCSELs具高成本效益，推動次世代雷射技術發展。
加速技術創新 確立NIL的領先地位
分子尼奧致力將NIL技術應用於化合物半導體異質整合與量子科技，打造具備高速數據通信雷射、矽光晶片及微/奈米結構基板、超穎光學及量子光學元件、生物醫學晶片等多功能化合物半導體產品製造平台，助力AI發展與量子科技持續創新。
在發展策略上，將持續與 Tier1企業及領先研究機構合作，聚焦新世代數據通信、量子光子學與自動化感測等高價值應用。透過AI優化製程，結合機器深度學習增強多元製程控制，提升NIL在半導體與光子元件製造的採用率。此外，也同步開發次世代多功能製程設計套件(PDK)，推動 NIL在量子科技的應用，確立公司在 NIL商業化的領先地位，加速 AI、量子計算、量子感測與次世代光子的技術創新。
開創趨勢品牌 專注走出自己的路
去年6月，AIT美國在台協會舉辦量子及光電美國參訪行程，國內多家業者應邀至科羅拉多、蒙大拿等美國量子產業聚落進行交流，顯示台灣的科技實力有助於量子技術應用落地，受到國際重現，分子尼奧名列其中。
林仲相說，那次參訪以學界與研究機構為主並與州政府建立合作管道；談到創業，他認為投資設備、建立產線都有機會取得訂單與市場，但若無法在產品與市場取得差異化，將走向資本化有機競爭。在台灣現有新創氛圍下，分子尼奧選擇「開創趨勢與品牌，不做ME-TOO」，努力並專注走出自己的路。
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