首頁 產學風

奈米級光學分析 新元鋒補齊關鍵拼圖

新元鋒精密3月4日並將與陽明交大、Attolight AG 合辦CL技術研討會,探討 CL 技術在奈米尺度材料分析、光電元件與先進製程的最新應用成果。
新元鋒精密成為瑞士 Attolight AG 陰極射線致發光光譜(CL)臺灣總代理,將全面引進其世界領先的奈米尺度光學與材料分析解決方案,服務半導體、先進材料與學術研究單位。3月4日並將與陽明交大、Attolight AG 合辦CL技術研討會,探討 CL 技術在奈米尺度材料分析、光電元件與先進製程的最新應用成果。圖為研討會主視覺(局部)。圖 / 新元鋒精密提供

引進奈米尺度光學 材料分析解方

新元鋒精密宣布,成為瑞士 Attolight AG 陰極射線致發光光譜(Cathodoluminescence, CL)臺灣總代理,將全面引進其世界領先的奈米尺度光學與材料分析解決方案,服務半導體、先進材料與學術研究單位。Attolight AG是全球 CL 技術領導品牌,原廠專家下月初將抵臺參加在陽明交大舉行的技術研討會。

新元鋒表示,為深化陰極射線致發光光譜在先進材料與半導體研究領域的應用,今(2026)年3月4日將與陽明交大、Attolight AG 合辦陰極射線致發光光譜應用技術研討會,深入探討 CL 技術在奈米尺度材料分析、光電元件與先進製程的最新應用成果。

優異空間解析 奈米材料研發關鍵

Attolight AG 的 CL 解決方案,目前已廣泛導入歐洲頂尖研究機構與國際半導體研發中心,成為高階材料光學分析的重要關鍵工具。其核心技術可將空間解析度推至奈米等級,同時兼具高光譜解析能力,研究人員可在SEM或專用平台中,直接解析材料的能隙結構、缺陷態分佈、應變效應與量子結構發光行為。

新元鋒指出,相較傳統光激發(PL)分析方法,CL技術具備更優異的空間解析力,特別適用在第三代半導體材料,如,GaN、SiC、AlN;量子井、量子點與異質結構分析;先進封裝與微奈米結構缺陷鑑別以及新世代光電、顯示與奈米材料的研發。

產學研技術交流 促進CL技術落地

新元鋒指出,本次研討會結合學術研究能量、在地產業服務與原廠技術優勢,打造高水準的技術交流平台。會中將由 Attolight 原廠專家與國內學研代表,分享 CL 技術的系統原理、實際量測案例與前瞻應用發展。

研討會議題涵蓋陰極射線致發光光譜系統架構與量測原理、CL 在半導體與奈米材料研究中的關鍵應用、CL與SEM、AFM、TEM 等分析技術的整合趨勢、國際研究案例分享與未來技術發展方向。透過三方合力推動跨域、跨單位深度交流,將促進CL技術在台灣高科技產業與前瞻科研領域的實質應用與落地。

引進關鍵技術 強化先進材料分析

新元鋒精密表示,多年來深耕高階精密設備與先進材料分析市場,目前服務對象主要包括半導體、光電、材料研究與學術單位;今後將持續提供完整的在地化技術支援、教育訓練與應用諮詢服務,協助客戶充分發揮陰極射線致發光光譜技術在研發與製程分析中的價值。

展望未來,新元鋒精密表示取得 Attolight 臺灣總代理後,不僅補齊奈米尺度光學分析的關鍵拼圖,有效強化台灣先進材料分析實力,同時,也實現持續引進全球頂尖技術、協助臺灣產業與研究單位,提升國際競爭力的長期承諾。 

新元鋒精密 CL技術研討會 

  • 日期:2026年3月4日
  • 時間:10:00入場
  • 地點:陽明交大基礎科學研究大樓 科學三館353室
  • 人數:因場地限制以60人為限

延伸閱讀

 

發表評論

請輸入您的評論!
請在這輸入你的名字

這個網站採用 Akismet 服務減少垃圾留言。進一步了解 Akismet 如何處理網站訪客的留言資料